• Rio de Janeiro Brasil
  • 14-18 Novembro 2022

Deposição de filmes contendo CrN via “High Power Impulse Magnetron Sputtering” em substrato de Ligas De Magnésio Zk60 E Zk60 + 1,5 Mishmetal

Autores

Júnior, W.O. (UFVJM) ; Santos, M.J.A. (UFVJM) ; Pinto, H.C. (EESC-USP) ; ávila, P.R.T. (EESC-USP) ; Silva, E.P. (UFVJM)

Resumo

Por apresentarem baixa densidade, as ligas de magnésio têm ganhado muito destaque nos últimos anos, principalmente para aplicações que exijam baixo peso e boa resistência mecânica. Porém, alguns problemas impedem seu uso mais amplo como sua baixa resistência à corrosão, caso das ligas ZK. Desta forma, o presente estudo tem por objetivo a obtenção de filmes cerâmicos utilizando CrN depositados pelo método de deposição física de vapor High Power Impulse Magnetron Sputtering em ligas ZK60 com e sem adição de Mishmetal nas temperaturas de 200°C e 300°C para utilização em aplicações biomédicas. O produto foi caracterizado utilizando MEV- FEG e AFM em parceria com a EESC-USP, os resultados obtidos mostraram um produto de boa adesão, porém com o aparecimento de defeitos de crescimento nos filmes.

Palavras chaves

HiPIMS; Filmes; Deposição

Introdução

Com o passar dos anos as ligas de magnésio têm se tornado de grande interesse em vários setores, devido às suas propriedades, como baixa densidade e boa resistência mecânica, principalmente nos setores automobilístico e aeronáutico. Diversos estudos, também vêm sendo realizados com intuito de utilizar as ligas de magnésio em aplicações biomédicas, porém essas ligas apresentam como limitações baixa resistência a corrosão, desta forma, contornar essa limitação, tem sido de grande interesse. Quando sofrem o processo de corrosão as ligas de magnésio, formam uma camada de hidróxido de magnésio (MgOH2), que pode provocar uma ameaça a integridade do biomaterial no qual ela foi aplicada (ANDERS, 2014; RADHA et al., 2017; ZHANG et al., 2010). Tendo em vista aumentar a resistência à corrosão das ligas de magnésio, técnicas de recobrimento têm sido utilizadas, a fim de obter filmes com boa densidade que permitam minimizar esse problema e promover aplicações de extremo interesse para a indústria (ANDERS, 2014; RADHA et al., 2017; WU et al., 2008). Os métodos de deposição de recobrimentos para a alteração de propriedades superficiais são variados, sendo os mais conhecidos a deposição química de vapor (CVD, do inglês chemical vapour deposition), e a deposição física de vapor (PVD, do inglês “Physical Vapor Deposition”) (JILANI et al., 2017; PODGORNIK et al., 2015). Os métodos de deposição física de vapor envolvem a deposição de filmes finos por transferência física de materiais de uma fonte para um substrato sem alterar a composição química dos materiais depositados. Esses revestimentos podem melhorar as propriedades de superfície, atrito e resistência à corrosão do material de revestimento, a depender do substrato e do revestimento utilizado. O processo PVD permite a deposição de qualquer material orgânico ou inorgânico em um processo não contaminante, permitindo a deposição em materiais simples, camadas variáveis, multicamadas ou camadas muito espessas. No entanto, esse processo é dificultado pelo alto custo dos equipamentos para realização da técnica, principalmente se comparado aos equipamentos utilizados em CVD, e o tempo elevado de deposição tendo, em média, taxas que variam de 10 a 100 Å/segundo (JILANI et al., 2017; MATTOX, 2007; PODGORNIK et al., 2015; SESHAN et al., 2018). A deposição de filmes finos por sputtering envolve o depósito de partículas vaporizadas de uma superfície chamada alvo. Se baseia na remoção física de átomos por bombardeio de alta energia de partículas de tamanho atômico (geralmente gases iônicos) acelerados por uma pistola de plasma ou íons. Múltiplas colisões causam um impulso em direção à superfície, de modo que os átomos localizados ali são atingidos por baixo, liberando energia na forma de calor. Essa colisão é suficiente para remover átomos da superfície, um processo chamado sputtering. O método HiPIMS (High Power Pulsed Magnetron Sputtering) é uma deposição de PVD que usa plasma de alta pulsação assistido por um dispositivo de magnetron para remover o material da superfície alvo que é consumido pelos efeitos de sputtering. No sputtering assistida por magnetron, os elétrons no plasma são confinados a uma região muito próxima da superfície do alvo usando um campo magnético, produzido por magnetos permanentes posicionados detrás do alvo, promovendo uma maior taxa de ionização no plasma (ANDERS, 2014; JILANI et al., 2017; MATTOX, 2007; OHRING, 2013; SESHAN et al., 2018; WU et al., 2008). Desta maneira, o objetivo deste trabalho foi avaliar a adesão e qualidade de recobrimentos produzidos por meio do processo de PVD HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) contendo CrN em temperaturas de 200 °C e 300 °C em ligas de magnésio ZK60 e ZK60+1,5 MM (mischmetal), com o intuito de aumentar a resistência à corrosão destas ligas, visando futuras aplicações biomédicas. Esses recobrimentos permitem o aumento da resistência superficial, tribológica e à corrosão do material recoberto. Porém, o sucesso dos recobrimentos depende do substrato e do recobrimento aplicados, e sua eficiência está diretamente relacionada ao método de deposição utilizado (PODGORNIK, 2015).

Material e métodos

A metodologia deste trabalho foi dividida nas seguintes etapas: recobrimento das ligas e caracterização dos recobrimentos. Neste trabalho foram empregados como substratos ligas de magnésio ZK60 e ZK60 com adição 1,5% de mischmetal. As ligas foram recobertas por CrN e Cr, sendo as mesmas recobertas utilizando uma planta piloto para deposição HiPIMS de recobrimentos fabricada pela empresa PLASMA- LIITS instalada junto ao Laboratório de Metalurgia Física da EESC-USP. Os recobrimentos foram produzidos utilizando-se espessuras médias de aproximadamente 36,5 μm para todas as camadas e depositados nas temperaturas de 200 °C e 300 °C. Para caracterização dos recobrimentos foi empregada a técnica de MEV-FEG, para investigação da micro e nano estrutura dos recobrimentos, assim como na observação da qualidade da interface entre as camadas. As amostras foram fraturadas por meio de um alicate de modo a permitir uma visão lateral dos recobrimentos. A Microscopia de força atômica (AFM) foi aplicada para a caracterização da topografia superficial das multicamadas depositadas, permitindo conhecer a rugosidade do topo dos recobrimentos. Os experimentos foram conduzidos junto ao Laboratório de Metalurgia Física da EESC-USP.

Resultado e discussão

A Figura 1, a seguir, apresenta imagens laterais das superfícies após a fratura das amostras produzidas com deposições a 200°C e 300°C, obtidas através do MEV- FEG. Na Figura 1 (a,b e c), é possível observar ainda em tom mais claro a camada-base mais fina de Cr e a mais espessa, com tom mais escuro, composta por CrN. As camadas tiveram boa aderência aos seus respectivos substratos, o que é muito característico da técnica. Com relação aos aspectos dos topos, observados pela imagem de MEV-FEG obtida do topo dos recobrimentos, apresentada na Figura 1. A figura 1 a) apresenta a morfologia das amostras obtidas a 200° dos recobrimentos depositados sobre a liga ZK60. É possível notar a morfologia característica de deposições HiPIMS, com estruturas colunares das camadas, acompanhando a superfície das amostras. Todavia é possível observar diferenças de tamanho dos grãos, mostrando que pode ter havido uma diferença na estrutura dos recobrimentos, devido aos diferentes parâmetros de deposição. Para certificar disso, outras análises serão realizadas posteriormente. Por ser depositada acompanhando a superfície do substrato, é possível haver alguns defeitos na fabricação dos filmes. Estes defeitos geram pontos de tensão, promovendo com isso um ponto de tensão que fragiliza o recobrimento, interferindo em seu bom desempenho. A imagem 1D abaixo apresenta um destes defeitos característicos à deposição HiPIMS, denominado Defeito Couve-Flor. Este defeito ocorre devido a uma descontinuidade (“buraco”) na superfície, como apresentado no destaque da figura. Devido a esta descontinuidade, as colunas crescem de forma desordenada promovendo um pequeno ressalto. É importante destacar que o defeito possui pequena escala, e devido à dimensão do próprio filme não é perceptível a olho nu. Por se tratar de um recobrimento duro, pontos assim podem fraturar o filme, além de gerar espaços para a entrada de agentes corrosivos no substrato. Para compreender melhor os aspectos de topografia discutidos anteriormente foram realizadas imagens de microscopia de força atômica das amostras, que podem ser vistas na figura 2. Os dados obtidos através da técnica foram inseridos na tabela abaixo na figura, que apresenta os valores de rugosidade média (Ra) e o desvio médio quadrático (Rms). A Ra consiste na média dos valores das ordenadas de afastamento obtidas pela microscopia, permitindo uma avaliação geral desta característica. O Rms, por sua vez, avalia os valores do eixo y das coordenadas elevados ao quadrado, extraindo depois a raíz da média. (ROCHA, 2014) As medidas de AFM mostraram que houve mudança na rugosidade das amostras com a mudança de temperatura. A rugosidade média mudou, nas amostras de ZK60, de 298,26 nm para 81,515 nm com a elevação da temperatura, uma redução de aproximadamente 3,6 vezes no valor de rugosidade, que também ocorreu nos valores de Rms. A redução no valor da rugosidade mostra o impacto da energia, citado anteriormente, na alocação dos átomos durante o crescimento dos grãos. Os grãos se tornam, a maiores temperaturas, mais refinados e apresentam menor rugosidade. O mesmo impacto ocorreu nas amostras depositadas sobre a liga ZK60 + 1,5 MM, com aumento inferior entre as amostras depositadas a 200°C e 300°C. O Ra para as amostras a 200°C foi de 188,27 nm, enquanto o Rma foi de 242,487. A 300°C estes valores foram reduzidos a 81,515 nm e 107,646 nm respectivamente. A rugosidade superior das amostras ZK60 depositadas a 200°C reitera seu baixo rendimento em baixas temperaturas, constatando a falta de difusão das camadas a esta temperatura. Para certificar que estes geraram tensões e espaços no filme seria necessário a realização de testes de corrosão e análises de tensão por meio de técnicas como o DRX, todavia não foi possível executá-las até a finalização deste.

Figura 01:

Imagens obtidas por MEV-FEG das camadas depositadas nas amostras.

Figura 02:

AFM da superfície recoberta a)ZK60 depositada a 200°C b)ZK60 depositada a 300°C c)ZK60 + 1,5MM depositada a 200°C d)ZK60 + 1,5MM depositada a 300°C

Conclusões

A partir dos resultados obtidos, é possível concluir que foi possível obter uma camada com boa adesão ao substrato, com espessuras entre 30μm e 40μm. Os grãos possuem morfologia colunar. A camada base foi importante para a boa adesão entre o recobrimento e o substrato, todavia foi possível observar a presença de defeitos couve-flor, decorrentes de descontinuidades na superfície do substrato. É possível concluir que os parâmetros utilizados não apresentaram uma relação excelente na densidade das camadas obtidas a 200 °C, com resultados interessantes a 300 °C. Este baixo efeito nas amostras de temperatura mais baixas pode estar relacionado à presença de intermetálico, que pode se transformar antes da temperatura de deposição e de fusão da liga. Todavia, para garantir e certificar estes resultados maior investigação se faz necessária: avaliar as fases formadas e efeitos destes nas tensões do recobrimento, utilizando a técnica de DRX, por exemplo. Até a finalização deste resumo não foi possível realizar tais testes.

Agradecimentos

Ao programa de pós-graduação da UFVJM, a Coordenação de Aperfeiçoamento do Ensino Superior (CAPES-código 001), ao IECT-UFVJM pelo suporte ao projeto. Bem como ao Laboratório da EESC-USP pelas análises e caracterizações realizadas.

Referências

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WU, G.; ZENG, X.; YUAN, G. Growth and corrosion of aluminum PVD-coating on AZ31 magnesium alloy. Materials Letters, v. 62, n. 28, 2008. Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.matlet.2008.07.014

ZHANG, L.C.; et al. Biofunctionalization of biodegradable magnesium alloy to improve the in vitro corrosion resistance and biocompatibility. Applied Surface Science; 451, pp. 20-31, 2010.

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